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商品一覧 - スパッタリングターゲットとは
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スパッタリングターゲット写真1
スパッタリングターゲット図1
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AGCセラミックスの豊富なファインセラミックス材料開発の技術をベースにした、高品質で安定したスパッタリングターゲットです。
AGCセラミックスの豊富なファインセラミックス材料開発の技術をベースに、原料処理から成形、焼成、加工、ボンディングの全工程を一貫生産していますので、高品質で安定したスパッタリングターゲットの供給が可能です。

また、当社独自の大型ボンディング炉を開発し、最大3.8m×0.5mのターゲットの製作が可能です。

一方、膜評価技術、成膜技術、アーキング(異常放電)防止技術など、ユーザー側に立った技術的バックアップを実施しております。また、独自のスパッタ成膜機器(カソード、電源など)の設計、施工を行い、お客様から満足を得られるためのハード技術も提供しております。
■スパッタリングとは
真空チャンバー内に基板とスパッタリングターゲットを対向させ、電圧をかけることにより、導入したアルゴン等のガスがプラズマ化されます。その際生成したイオンが電界で加速されてターゲットをたたき、ターゲット成分が飛び出し、対向した基板表面に付着します。
この原理を利用して、基板にオングストローム単位からミクロンオーダーまでの薄膜を形成する方法です。
質材 材種 材料の機能 スパッタ膜の機能(酸化膜) 主な用途
DC成膜 その他 耐久性 屈折率 膜質 その他
Si系 ST 組成比可変 1.7〜2.0 非晶 無色高透明膜 ディスプレイやタッチパネルなどの低反射膜/自動車熱反硝子や建築熱反硝子の保護膜/光学膜
SX 低アーキング性 1.7 非晶 無色高透明膜
流滴性
SC SiO2高速成膜
安定放電
1.46 非晶 SiO2
Ti系 TXO TiO2高速成膜 2.45 非晶 TiO2
Nb系 NBO Nb2O5高速成膜 2.3 非晶 Nb2O5
Zn系 GZO Ar成膜
低ノジュール性
  1.9 結晶 透明導電膜 ディスプレイ用光学膜/太陽電池や電気自動車や帯電防止コート用の透明導電膜
AZO Ar成膜
低ノジュール性
  1.9 結晶 透明導電膜
Sn系
開発中
GIT Ar成膜
低ノジュール性
2 非晶 透明導電膜
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